水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī)
概述：水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī)，接觸過(guò)SGN上海思峻的人都知道，SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較高端的設(shè)備，SGN膠體磨和國(guó)內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國(guó)內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢(shì)的，而SGN研磨分散機(jī)又
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- 90000 元
一、產(chǎn)品名稱(chēng)：水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī),環(huán)氧樹(shù)脂納米分散機(jī),水性環(huán)氧樹(shù)脂納米分散設(shè)備,涂料納米分散機(jī),樹(shù)脂納米分散機(jī)
二、水性環(huán)氧樹(shù)脂簡(jiǎn)介
水性環(huán)氧樹(shù)脂通常是指環(huán)氧樹(shù)脂以微粒、液滴或膠體形式分散于水相中所形成的乳液、水分散體或水溶液，三者之間的區(qū)別在于環(huán)氧樹(shù)脂分散相的粒徑不同。
水性環(huán)氧樹(shù)脂分散后可以制備水性環(huán)氧樹(shù)脂涂料，一般有四種方式，較為簡(jiǎn)單直接的是機(jī)械法，機(jī)械法即直接乳化法，可用膠體磨、球磨機(jī)、砂磨機(jī)等設(shè)備先將固體環(huán)氧樹(shù)脂預(yù)先磨成微米級(jí)的環(huán)氧樹(shù)脂粉末，然后加入乳化劑水溶液，再通過(guò)機(jī)械攪拌將粒子分散于水中; 或?qū)h(huán)氧樹(shù)脂和乳化劑混合，加熱到適當(dāng)?shù)臏囟龋诩ち业臄嚢柘轮饾u加入水而形成乳液。用機(jī)械法制備水性環(huán)氧樹(shù)脂乳液的優(yōu)點(diǎn)是工藝簡(jiǎn)單，所需乳化劑用量較少，但乳液中環(huán)氧樹(shù)脂分散相微粒尺寸較大，粒子形狀不規(guī)則且尺寸分布較寬，所配得的乳液穩(wěn)定性差，粒子之間容易相互碰撞而發(fā)生凝結(jié)現(xiàn)象，并且該乳液的成膜性能也欠佳。
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三、機(jī)械法解決水性環(huán)氧樹(shù)脂分散問(wèn)題
當(dāng)然，機(jī)械法存在的問(wèn)題是可以很好的去解決的，乳液穩(wěn)定性差，可以說(shuō)明兩個(gè)原因，一是水性環(huán)氧樹(shù)脂的粒徑?jīng)]有充分的細(xì)化，二是水性環(huán)氧樹(shù)脂沒(méi)有更好的分散到水中，形成穩(wěn)定的乳液。如果采用SGN高速剪切研磨分散機(jī)的話(huà)就可以解決機(jī)械法存在的問(wèn)題，使得環(huán)氧樹(shù)脂微粒能較為穩(wěn)定地分散在水相中。SGN高速剪切納米研磨分散機(jī)簡(jiǎn)單的將就是將SGN高剪切膠體磨和SGN高剪切分散機(jī)合二為一，形成兩級(jí)的設(shè)備，第一級(jí)為膠體磨磨頭，實(shí)現(xiàn)研磨細(xì)化的功能；第二級(jí)為分散機(jī)分散盤(pán)，實(shí)現(xiàn)分散均勻的功能。
四、SGN水性環(huán)氧樹(shù)脂納米研磨分散機(jī)特點(diǎn)
水性環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機(jī)，接觸過(guò)SGN上海思峻的人都知道，SGN膠體磨和SGN分散機(jī)在行業(yè)就是較高端的設(shè)備，SGN膠體磨和國(guó)內(nèi)膠體磨相比、SGN分散機(jī)和國(guó)內(nèi)分散機(jī)相比都是存在巨大優(yōu)勢(shì)的，而SGN研磨分散機(jī)又是將二者結(jié)合的設(shè)備，處理效果，不言而喻。
SGN高速剪切研磨分散機(jī)有很高的線速度，以及第一級(jí)磨頭，特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu)，一次處理即可滿(mǎn)足細(xì)化要求。第一級(jí)刀頭形狀，可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎，以便能順利通過(guò)更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨。 磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)，相較溝槽是直線，同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒，但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。第二級(jí)分散盤(pán)，無(wú)論是在分散盤(pán)的結(jié)構(gòu)、還是定轉(zhuǎn)子的間隙都有比其他分散盤(pán)要精密的多。
五、GMD2000系列納米研磨分散設(shè)備選型表
|
型號(hào) |
流量 L/H |
轉(zhuǎn)速 rpm |
線速度 m/s |
功率 kw |
入/出口連接 DN |
|
GMD2000/4 |
300 |
9000 |
23 |
2.2 |
DN25/DN15 |
|
GMD2000/5 |
1000 |
6000 |
23 |
7.5 |
DN40/DN32 |
|
GMD2000/10 |
2000 |
4200 |
23 |
22 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/20 |
5000 |
2850 |
23 |
37 |
DN80/DN65 |
|
GMD2000/30 |
8000 |
1420 |
23 |
55 |
DN150/DN125 |
|
GMD2000/50 |
15000 |
1100 |
23 |
110 |
DN200/DN150 |
- shsj01發(fā)布的信息
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