電鍍涂裝超純水設(shè)備,表面處理清洗純水設(shè)備
概述:4、EDI是利用陰、陽(yáng)離子膜,采用對(duì)稱堆放的形式,在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下,水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-,這些H+和
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電鍍涂裝超純水設(shè)備,表面處理清洗純水設(shè)備
電鍍涂裝超純水設(shè)備,表面處理清洗純水設(shè)備 的工藝:
反滲透設(shè)備主機(jī)系統(tǒng)
反滲透主機(jī): 反滲透法能適應(yīng)各類含鹽量的原水,尤其是在高含鹽量的水處理工程中,能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。反滲透法的脫鹽率提高,回收率高,運(yùn)行穩(wěn)定,占地面積小,操作簡(jiǎn)便,反滲透設(shè)備在除鹽的同時(shí),也將大部分細(xì)菌、膠體及大分子量的有機(jī)物去除。
三、反滲透設(shè)備殺菌消毒系統(tǒng): 紫外線殺菌器+臭氧發(fā)生器
我公司生產(chǎn)的RO純水機(jī)根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)制造反滲透系統(tǒng),一般產(chǎn)水下限0.125m3/hr,水回收率一般可達(dá)75%以上,脫鹽率>97%,關(guān)鍵設(shè)備采用進(jìn)口產(chǎn)品,工藝先進(jìn),質(zhì)量可靠,可擴(kuò)展性強(qiáng),結(jié)構(gòu)合理占地小,水利用率高,能耗低,操作維護(hù)簡(jiǎn)單。電控部分為韓國(guó)LG公司產(chǎn)的PLC可編程自動(dòng)控制。 反滲透純水系統(tǒng)根據(jù)不同的源水水質(zhì)采用不同的工藝。一般自來(lái)水經(jīng)一級(jí)反滲透系統(tǒng)處理后,產(chǎn)水電導(dǎo)率<10μS/cm,經(jīng)二級(jí)反滲透系統(tǒng)后產(chǎn)水電導(dǎo)率<5μS/cm甚至更低,在反滲透系統(tǒng)后輔以離子交換設(shè)備或EDI設(shè)備可以制備超純水,使電阻率達(dá)到18兆歐姆(電導(dǎo)率=1/電阻率)。
3、RO 主機(jī)系統(tǒng)引進(jìn)國(guó)際上先進(jìn)的反滲透技術(shù),利用壓力差 原理,能有效地去除水中的鹽。
4、混合采用離子交換技術(shù),內(nèi)裝陰、陽(yáng)樹脂,合理的樹脂 層高度能有效地保證出水水質(zhì)滿足用戶要求。 電子工業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用范圍 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路、超純材料和超 純化學(xué)試劑、實(shí)驗(yàn)室和中試車間、汽車家電表面拋光處理醫(yī)藥行 業(yè)用水、其他高科技精微產(chǎn)品行業(yè)。EDI是利用陰、陽(yáng)離子膜,采用對(duì)稱堆放的形式,在陰、陽(yáng)離子膜中間夾著陰、陽(yáng)離子樹脂,分別在直流電壓的作用下,進(jìn)行陰、陽(yáng)離子交換。而同時(shí)在電壓梯度的作用下,水會(huì)發(fā)生電解產(chǎn)生大量H+和OH-,這些H+和OH-對(duì)離子膜中間的陰、陽(yáng)離子不斷地進(jìn)行了再生。使得純水度越來(lái)越高產(chǎn)生了高純度的超純水。



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